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單層二硫化鉬-納米尺寸單層二硫化鉬

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詳細(xì)介紹

參數(shù):

制備方法:鋰基插層法

組成:?jiǎn)畏肿訉?,具有小尺寸的二硫化?/p>

外觀:黑色粉末或分散體

直徑:20-500 nm,主要集中在100-200 nm

厚度:1納米

單分子層比例:95%



Parameter:

Preparation Method:Lithium-based Intercalation Method

Composition: Monolayer Tungsten disulfide with small size

Appearance: Black powder or dispersion

Diameter: 20-500 nm, mainly concentrate in 100-200 nm

Thickness: ~1 nm

Monolayer ratio: >=95%




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