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瑞士idonus濕法工藝晶圓卡盤

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詳細(xì)介紹

濕法工藝晶圓卡盤,用于在濕法蝕刻或電沉積過程中提供背面保護(hù):我們提供晶片直徑在2~200 mm的晶圓卡盤。可根據(jù)要求制造定制卡盤。可制造用于KOH和HF蝕刻以及浸入其他化學(xué)品的卡盤。集成環(huán)形電極的卡盤可在電流沉積過程中使晶片上的電流密度分布均勻。可根據(jù)您的需求設(shè)計(jì)用于多個濕法加工晶圓卡盤的晶圓卡盤載體。大多數(shù)載體的設(shè)計(jì)完全適合我們客戶的蝕刻設(shè)備。
下面,我們列出一些用于濕法刻蝕微制造工藝的標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)品,并與我們的晶圓卡盤是兼容的:
氫氟酸(氫氟酸)。
KOH(氫氧化鉀)。
TMAH(四甲基氫氧化銨)

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