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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

品牌：沈陽科晶
型號： VTC-600-2HD
產(chǎn)地：遼寧沈陽
供應(yīng)商報價：面議

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司更新時間：2025-05-06 12:36:21

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品磁控濺射鍍膜(18件)

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產(chǎn)品特點

1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

詳細(xì)介紹

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

產(chǎn)品名稱	VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600-2HD
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：900W 3、腔體內(nèi)徑：?300mm 4、極限真空度：9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 6、靶槍數(shù)量：2個（可選配其他數(shù)量） 7、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 9、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源） 10、載樣臺：?140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 11、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、工作氣體：Ar等惰性氣體 13、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格	1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、真空室規(guī)格：φ300×300mm 4、重量：160kg
標(biāo)準(zhǔn)配件	1直流電源控制系統(tǒng)1套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套 4分子泵（德國進口或者國產(chǎn)更大抽速）1臺 5冷水機1臺 6聚酯PU管（?6mm）4m
可選配件	金、銦、銀、鉑等各種靶材可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜