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高校實(shí)驗(yàn)室直流磁控濺射儀
- 品牌:鄭州科探儀器
- 型號: KT-Z1650PVD
- 產(chǎn)地:河南 鄭州
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):¥39800
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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
更新時(shí)間:2024-08-08 16:25:57
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銷售范圍售全國
入駐年限第3年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品小型濺射儀(9件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- 超高溫蒸鍍儀,7寸人機(jī)界面控制,手動 自動模式可切換,Z大功率1200w,電動擋板保護(hù)樣品。
詳細(xì)介紹
水冷型磁控濺射儀,7寸人機(jī)界面,自動手動模式切換控制,最1大功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。
所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
水冷型磁控濺射儀技術(shù)參數(shù);
控制方式
7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1000W
輸出電壓電流
電壓≤1000V 電流≤1A
真空
機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空
≤30Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺
可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)
樣品臺轉(zhuǎn)速
8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離
40-105mm
真空測量
皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)
預(yù)留真空接口
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
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