Leica EM ACE600 濺射鍍膜機(jī)

碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴

適合廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統(tǒng)

EM ACE600 濺射鍍膜機(jī)裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域。 實現(xiàn)工作流程目標(biāo)，滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運(yùn)行兩個不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

無論您需要……

• 對扁平或結(jié)構(gòu)化的非導(dǎo)電樣本進(jìn)行高分辨率成像

• 增強(qiáng)納米級結(jié)構(gòu)（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）的對比度

• 生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅固的支撐層，或者

• 為敏感樣本提供保護(hù)層

• 擴(kuò)展冷凍應(yīng)用中的系統(tǒng)

……使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，皆可實現(xiàn)。

通過濺射鍍膜獲得可重現(xiàn)的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統(tǒng)，每次運(yùn)行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足先進(jìn)鍍膜所需的適當(dāng)條件并實現(xiàn)可重現(xiàn)的結(jié)果。

可進(jìn)行高達(dá) 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎(chǔ)真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細(xì)均衡調(diào)整工藝參數(shù)。 根據(jù)樣本形態(tài)的需要調(diào)整樣本距離和鍍膜角度。

為進(jìn)一步加強(qiáng)鍍膜效果，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

按需配置 EM ACE600

通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機(jī)運(yùn)行多個制程。 同時，將濺射頭與先進(jìn)的碳絲蒸發(fā)器結(jié)合使用或者選用兩個濺射源，可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。

• 采用經(jīng)過優(yōu)化的帶兩個斜角端口和一個旋轉(zhuǎn)臺的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

• 有穩(wěn)定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機(jī)濺射源可供選擇

• 為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

• 可隨時在現(xiàn)場升級

專注于制備過程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規(guī)樣本制備。 簡單可靠的工作流程和便捷的標(biāo)準(zhǔn)操作程序讓您能夠?qū)Ｗ⒂陔婄R樣本制備的關(guān)鍵部分。 您可以專注于優(yōu)化工作流程，減少自己學(xué)習(xí)操作方法或培訓(xùn)他人使用方法的時間。

• 通過前門安全裝卸敏感樣本

• 基于工作流程的用戶界面，可快速訪問相關(guān)參數(shù)，全程引導(dǎo)式操作

• 輕量、穩(wěn)定的濺射源，方便日常操作

擴(kuò)展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，全方位提升實驗室電鏡實驗?zāi)芰Α?將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過 EM VCT500 傳輸系統(tǒng)將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)分析。

EM ACE600 提供：

• 用于傳輸冷凍樣本的接口

• 用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

• 基本型斷裂裝置

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機(jī)，滿足實驗室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇，例如帶有多達(dá) 3 個電動軸的 3 軸樣本臺或?qū)Ｓ美鋮s臺。

可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。 它需要具有導(dǎo)電性，但對電子束透明，并且不能具有顆粒結(jié)構(gòu)。

采用自適應(yīng)脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固并具有導(dǎo)電性，還可以通過烘焙法進(jìn)一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：

• 對電子的高透明度

• 足以承受電子轟擊的強(qiáng)度

• 均勻的厚度，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要