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ETD-800 全自動小型離子濺射儀 博遠微納
- 品牌:博遠微納
- 型號: ETD-800
- 產地:北京 海淀區(qū)
- 供應商報價:¥36000
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北京博遠微納科技有限公司
更新時間:2025-02-21 08:20:30
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銷售范圍售全國
入駐年限第8年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產品離子濺射儀(4件)
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- ETD-800 全自動小型離子濺射儀 博遠微納 核心參數(shù)
產品特點
- ETD-800 型全自動等離子濺射儀外觀亮麗做工精致,機箱大小僅有310mm x 260mm x 115mm。
ETD-800小型離子濺射儀是專門為掃描電子顯微鏡用戶設計的全自動鍍膜設備;操作簡便,放入樣品后可一鍵搞定;數(shù)字式計數(shù)器滿足極ng準定時要求,特別適用對膜顆粒大小要求高的場發(fā)射掃描電子顯微鏡;膜厚均勻穩(wěn)定; 詳細介紹
ETD-800 型全自動等離子濺射儀外觀亮麗做工精致,機箱大小僅有310mm x 260mm x 115mm。
ETD-800小型離子濺射儀是專門為掃描電子顯微鏡用戶設計的全自動鍍膜設備;操作簡便,放入樣品后可一鍵搞定;數(shù)字式計數(shù)器滿足jing準定時要求,特別適用對膜顆粒大小要求高的場發(fā)射掃描電子顯微鏡;膜厚均勻穩(wěn)定;
配有高位定性的飛躍真空泵
ETD-800 type full automatic plasma sputtering instrumentBeautiful appearance and exquisite workmanship.
ETD-800 small ion sputtering instrument is specialThe automatic coating equipment designed for users of scanning electron microscope (SEM) is designed. It is easy to operate, and can be done by one key after the sample is put into the sample. The digital counter meets the requirement of precise timing, especially the field emission scanning electron microscope which requires high size of the membrane particles; the film thickness is uniform and stable.
High qualitative jump vacuum pump
參數(shù)
配套泵:一升飛躍泵
濺射靶材:標配靶材為金靶,厚度為50mm*0.1mm。也可根據(jù)實際情況配備銀靶、鉑靶等。
濺射電流:最大電流50mA,工作電流20mA
濺射速率:優(yōu)于10nm/min
樣品倉尺寸:直徑103mm,高100mm
樣品臺尺寸:樣品臺尺寸直徑50mm
工作電壓:220V(可做110V),50HZ
需要鍍膜的樣品
電子束敏感的樣品 非導電的樣品 新材料 主要包括生物樣品,
塑料樣品等。
S EM中的電子束具有
較高能量,在與樣品
的相互作用過程中,
它以熱的形式將部分
能量傳遞給樣品。
如果樣品是對電子束
敏感的材料,那這種
相互作用會破壞
部分甚至整個樣品結構。
這種情況下,
用一種非電子束
敏感材料制備的
表面鍍層就可以
起到保護層的作用,
防止此類損傷;
由于樣品不導電,
其表面帶有“電子陷阱”,
這種表面上的
電子積累被稱為“充電”。
為了消除荷電效應,
可在樣品表面鍍
一層金屬導電層,
鍍層作為一個導電通道,
將充電電子從材料
表面轉移走,消除
荷電效應。在掃描
電鏡成像時,濺射
材料增加信噪比,
從而獲得更好的成像質量。
非導電材料實驗電極
制作觀察導電特性
ETD系列鍍膜儀是一款專為SEM、TEM及薄膜應用設計的真空鍍膜儀,對于掃描電鏡尤其是高分辨場發(fā)射掃描電鏡(SEM)樣品制備、透射電鏡(TEM)及其它非電鏡(如材料領域)鍍膜應用非常理想。ETD離子濺射儀采用金屬壓制的標準機箱,此機箱做工精良,結構穩(wěn)固。飛越牌真空泵抽數(shù)快,真空穩(wěn)定性高。自主設計的微型真空閥能準確的控制好壓強,保證了鍍膜期間**的真空條件。真空腔室直徑為165mm (6.5英寸)的硼硅酸鹽玻璃,特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象;陶瓷密封高壓頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。ETD系列含有電磁閥裝置,在工作完畢后緩慢,平穩(wěn)的進氣以確保鍍好的膜層盡可能的不被空氣中的雜質所污染。ETD系列有七種型號:ETD-900、ETD-800、ETD-900C、ETD-800C、ETD-900M、ETD-3000、ETD-MH、ETD-CH,其中ETD-900C為一款集成了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空鍍膜方式的系統(tǒng),鍍膜頭可在數(shù)秒內快速完成鍍膜。它既可濺射易氧化及不氧化金屬(貴金屬),標配一塊金靶,可選金、銀、鉑等多種金屬靶;用來制作高穩(wěn)定性的碳膜和表面覆形膜,對透射電鏡(TEM)的應用非常理想。
ETD-900M為一款濺射插入頭為磁控系統(tǒng)的濺射儀,可使濺射處理期間產生的高能電子偏轉,從而遠離樣品,這有助于創(chuàng)建必要的冷濺射環(huán)境以消除熱影響,且確保濺射成膜中的精細顆粒結構;
ETD-3000型為一款針對材料做電極的濺射儀,較高的輸出電壓能使成膜更加牢固,防止膜層脫落。
儀器特點:
金屬濺射和碳蒸發(fā)兩者兼?zhèn)?,一體化設計,結構緊湊,節(jié)約空間。
精細顆粒濺射——適合先進的高分辨率場發(fā)射掃描電鏡和鎢燈絲掃描電鏡制樣的應用。
定時器控制——快速數(shù)據(jù)輸入,操作簡單。采用定時器作為簡單的操作核心,即使最不熟練的或偶而使用的操作者,儀器也能使其快速鍵入自己的處理數(shù)據(jù)。
微型真空調節(jié)閥讓使用者更好調節(jié)真空,以適應不同的靶材和材料,形成最更優(yōu)質的薄膜。
精細的厚度控制——使用膜厚監(jiān)控選項。(選配)
先進的碳纖維夾持上蓋——簡單操作,重復性好。
標配高低可調節(jié)樣品臺,可放置多個樣品杯。還可定制多種型號樣品臺。
自動泄氣裝備可防止真空泵由于壓差原因使油倒灌進樣品室,還可避免樣品突然暴露在空氣中造成膜的污染。
標準成型機箱——小巧,美觀,易維護和易拆裝。
特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象;陶瓷密封高壓頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
部分可選項:
光纖夾持旋轉樣平臺
球型旋轉臺
顯微鏡載玻片樣品臺
用于高樣品的加高腔室
膜厚監(jiān)測附件(FTM),用于可重復膜厚控制:到達理想膜厚。
技術文章
樣品室尺寸 | 103*100mm | 靶材料 | 金 |
靶尺寸 | 直徑50*0.1 | 濺射面積 | 50 |
真空度 | 1pa |