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生物分子點(diǎn)印加工系統(tǒng)
- 品牌:ACST
- 型號(hào): NLP 2000
- 產(chǎn)地:美洲 美國(guó)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):面議
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北京佰司特科技有限責(zé)任公司
更新時(shí)間:2024-07-26 16:48:06
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銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第7年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品生物芯片點(diǎn)印儀(3件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- NLP 2000可以很好地應(yīng)用于微納米芯片的大面積點(diǎn)印沉積。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水筆納米刻蝕技術(shù)),是**個(gè)能夠在大的基底表面點(diǎn)印亞微米圖案的系統(tǒng)。由于點(diǎn)印的團(tuán)的大小可以從100 nm到10uM以上,NLP 2000給納米加工刻蝕技術(shù)帶來(lái)前所未有的方便。
詳細(xì)介紹
生物分子點(diǎn)印加工系統(tǒng)
------(蛋白質(zhì)/DNA/抗原/抗體/脂質(zhì)體等)
NLP 2000系統(tǒng)是一個(gè)用戶界面友好并且簡(jiǎn)單方便的臺(tái)式納米加工平臺(tái),可以以亞微米級(jí)別的精確度和分辨率將多種材料點(diǎn)印到基底模板上。整合MEMS和沉積技術(shù)到NLP 2000系統(tǒng)的點(diǎn)印和自動(dòng)化軟件之中,用戶可以在幾十分鐘內(nèi)隨意創(chuàng)造出自定制化的圖案。NLP 2000可以很好地應(yīng)用于微納米芯片的大面積點(diǎn)印沉積。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水筆納米刻蝕技術(shù)),是第一個(gè)能夠在大的基底表面點(diǎn)印亞微米圖案的系統(tǒng)。由于點(diǎn)印的團(tuán)的大小可以從100 nm到10uM以上,NLP 2000給納米加工刻蝕技術(shù)帶來(lái)前所未有的方便。NLP 2000可以提供1-10微米的點(diǎn)印,使它成為納米工程和生物材料的領(lǐng)域的理想工具,例如:
多重蛋白質(zhì)點(diǎn)印
生物芯片功能化
細(xì)胞微米/納米圖案研究
聚合物點(diǎn)印,包括乙二醇和丙烯酸
特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)
除了可以點(diǎn)印多種材料的納米/微米圖案之外,NLP 2000的優(yōu)點(diǎn)還有:
快速點(diǎn)印多種成分的團(tuán),分辨率在1-10微米
自動(dòng)化,精確,同一平面的點(diǎn)印區(qū)域可達(dá)到40mm ×40mm
微米結(jié)構(gòu)的材料的功能化加工
通過(guò)高倍分辨率的光學(xué)顯微鏡 & 環(huán)境腔進(jìn)行過(guò)程檢測(cè)和控制
用戶友好的軟件
材料點(diǎn)印的標(biāo)準(zhǔn)流程
標(biāo)準(zhǔn)配置
NLP2000 系統(tǒng)主機(jī),光學(xué)部分,控制器
M-型多探針陣列。儲(chǔ)液池,基底板
快速啟動(dòng)說(shuō)明,用戶操作手冊(cè),CD
一年保修,配件和人力
環(huán)境控制腔
整合的隔震臺(tái)
延遲的有限質(zhì)保,1年
大區(qū)域、全自動(dòng)、精確的點(diǎn)印
除了一個(gè)大的40mm × 40mm XY平臺(tái)之外,NLP 2000系統(tǒng)包括基本培訓(xùn)之后用戶快速點(diǎn)印大的表面的所需要的所有軟硬件。NLP 2000 配置的3個(gè)壓電驅(qū)動(dòng)的線性位移臺(tái)(XYZ)和2個(gè)角位臺(tái) Goniometer Stage(Tx和Ty)確保了大區(qū)域精確快速點(diǎn)印的穩(wěn)定性。全自動(dòng)的調(diào)平控制系統(tǒng),標(biāo)準(zhǔn)的點(diǎn)印規(guī)則,以及軟件腳本處理使NLP 2000系統(tǒng)可以簡(jiǎn)單、自動(dòng)、可控的完成長(zhǎng)時(shí)間點(diǎn)印。
微結(jié)構(gòu)的功能化
通過(guò)使用NLP 2000系統(tǒng)的高分辨率平臺(tái),亞微米光學(xué)分辨率和樣品點(diǎn)印界面,科學(xué)家可以簡(jiǎn)單方便的功能化傳感器,陣列傳感器,微接觸印刷印章,微流體設(shè)備,或者其他預(yù)裝配的微結(jié)構(gòu)。
可控地點(diǎn)印環(huán)境
為了全面的監(jiān)控和控制點(diǎn)印過(guò)程,NLP 2000 系統(tǒng)配置了高分辨率的光學(xué)顯微鏡和環(huán)境控制腔,以及隔震臺(tái)。整合的環(huán)境控制腔可以是用戶控制和記錄溫度,濕度和其他參數(shù),用于實(shí)時(shí)或者后續(xù)的分析和校準(zhǔn)。此外,NLP 2000 還可以兼容市場(chǎng)上的主動(dòng)和被動(dòng)的各種防震臺(tái)。
點(diǎn)印的材料和基底:NLP 2000 系統(tǒng)可以點(diǎn)印和成像多種分子材料和液體到不同的基底材料,黏度范圍可以從1-20000 cP。
點(diǎn)印的材料
☆ 蛋白質(zhì)
☆ 核酸
☆ 抗原
☆ 脂質(zhì)體
☆ 納米顆粒
☆ 聚乙二醇
☆ UV-固化的多聚體
☆ 熱-固化的多聚體
☆ 甘油
☆ 硅烷
兼容的基底
☆ 硅
☆ 二氧化硅
☆ 硅烷化表面
☆ 氨基活化的玻片
☆ 金屬
☆ PDMS
☆ 水凝膠
☆ 聚苯乙烯
☆ 催化劑
☆ 硫醇
技術(shù)資料
點(diǎn)樣體積 | 0.1-10ul; | 點(diǎn)樣密度 | 0.1um |
點(diǎn)樣速度 | 1000/min | 點(diǎn)樣直徑 | 0.1-100um |