美國(guó)UVOCS  UVO?紫外臭氧清洗機(jī)T10x10/OES,T16x16/OES

紫外臭氧清洗，去除無(wú)機(jī)基 材料（如：石英、硅片、金、鎳、 鋁、砷化鎵，氧化鋁等）上的有 機(jī)污染物；特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí)，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表 面，只需在傳統(tǒng)清洗之后，再用 紫外臭氧清洗幾分鐘就可以。

不銹鋼結(jié)構(gòu)箱體

應(yīng)用說(shuō)明

? 表面的原子級(jí)清洗                                           
?去除有機(jī)分子
?紫外光固化、表面化學(xué)改性
?聚合物粘接、金屬粘結(jié)準(zhǔn)備
?微流控制作、微米/納米構(gòu)型
?表面殺菌、表面氧化
?釋放捕獲的無(wú)機(jī)分子
?快速－大多數(shù)應(yīng)用10分鐘內(nèi)可完成
 

臭氧控制系統(tǒng)：
   

 紫外臭氧清洗工作原理

 UVO清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和 等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線后被激發(fā)或分解；激發(fā)的 有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如CO?,等。整個(gè)過(guò)程在室溫發(fā) 生，并且只需要1到幾分鐘完成。

紫外光處理表達(dá)方式：

紫外臭氧清洗可以去除？
皮膚油脂，有機(jī)硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。

怎樣說(shuō)是“超”潔凈？
接觸角測(cè)量方法4-5度。適用AES和ESCA測(cè)量細(xì)微的峰值。使用蒸汽測(cè)試，在冷凝 和蒸發(fā)時(shí)形成一致的彩虹裝的條紋。

應(yīng)用說(shuō)明

*注1：白色氧化鋁暴露在UV能量下會(huì)變黃，這種現(xiàn)象是由于基材吸收UV能量， 而不是一種涂 層。這種氧化鋁在

加熱情況下會(huì)轉(zhuǎn)化為他原來(lái)的顏色。
**注2：清洗元件溫度的上升取決清洗過(guò)程的時(shí)間長(zhǎng)度。在大多數(shù)應(yīng)用，元件溫度可以視為室溫。
    

設(shè)備技術(shù)參數(shù)