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SEM/ EBSD制樣-離子研磨拋光儀

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產品特點

這款設備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面

詳細介紹

【新品】Technoorg Linda電鏡制樣設備SEMPREP SMART 離子研磨儀

SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質量的樣品,例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現(xiàn)出色的效果。

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 主要特點:

先進的離子槍設計和自動化功能

新型用戶友好操作軟件:為用戶提供智能輔助

更精確的針閥:允許對氣流進行精細調整

高精度可調性:用于精細調節(jié)操作
更長壽命高真空傳感器

產品功能:

可選低能槍(LEG)

可選的新型 LN2 冷卻系統(tǒng)

可選真空轉移裝置 (VTU),用于在真空條件下取出樣品

 獨立的對位樣品臺:在進行 90° 加工時用于精確樣品定位


技術參數(shù):


離子槍:

超高能量離子槍,最高可達 16 keV

樣品尺寸

截面樣品臺(可選 30°、90°樣品臺):

 30°樣品臺:最大尺寸16.4mm (長) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚) 

 90°樣品臺:最大尺寸18.6mm (長) x 16mm (寬) x 6mm (厚)

用于表面加工(EBSD)的平面樣品臺,配有三種不同的頭部類型

• 平頭型:最大直徑 50mm x 4mm

• 標準型:最大直徑 32mm x 15mm

• 空心型:最大直徑 25mm x 23mm

樣品臺移動

• 樣品傾斜角度:0° 至 30°,每 0.1° 連續(xù)可調

• 樣品旋轉角度調節(jié):360 可變速樣品旋轉,角度速度可調

• 樣品加工擺角(搖擺):±10° 至 ±120°,每 5° 連續(xù)可調

 樣品冷卻(可選)

液氮冷卻或 Peltier 冷卻

真空系統(tǒng) 

無油隔膜泵和分子泵  

氣體供應系統(tǒng) 

純度為 99.999% 的氬氣工作氣體,高精度針閥流量控制 

分子泵

HiPace 80 Neo. 

成像系統(tǒng) 

500萬像素CMOS相機,具有圖像內的測量功能 

計算機控制 

易于使用的圖形界面,自動化離子槍操作和樣品臺 位置校準



使用氬離子束進行加工

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【新品】Technoorg Linda電鏡制樣設備SEMPREP SMART 離子研磨儀

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