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日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

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產(chǎn)品特點(diǎn)

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000
。采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

詳細(xì)介紹


日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

 

特點(diǎn):

。采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

 

規(guī)格:

項(xiàng)目說明
放電:類型:磁控二極管放電型(電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng))
電極組成:反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓:最大 0.4 kV DC(直流可變)
電流:最大 40 mA DC
噴鍍速率 *1(最大):
[條件]:
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件):15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件):20 nm/min
Au 靶(選配件):35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件):25 nm/min
樣品尺寸:最大直徑:φ60 mm
最大高度:20 mm
機(jī)械泵:135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2:Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求:單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸:寬度:450 mm
長(zhǎng)度:391 mm
高度:390 mm
重量:主機(jī):約 25 kg
機(jī)械泵:約 28 kg

 

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