產(chǎn)品簡介:

利用光彈調(diào)制器技術(shù)，Hinds 公司的應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)可以在深紫外（193nm）波段進行應(yīng)力雙折射探測。

針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）有著du家的技術(shù)解決方案。

應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測量

Hinds 公司的不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)）通過對光的調(diào)制解調(diào)可以測出待測光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時也表示了應(yīng)力的大小和方向。Hinds 公司這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測量系統(tǒng)du創(chuàng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對非球面不規(guī)則的光學(xué)元件（光刻機透鏡等）有著wan美的掃描測量解決方案。

產(chǎn)品特點：

1.      全套內(nèi)置軟件自動掃描成圖

2.      非球面掃描（手動宏程序）

3.      應(yīng)力大小及方向分布探測成圖

4.      定制各種尺寸形狀樣品臺

5.      zui低探測強度：皮瓦

產(chǎn)品參數(shù)：

1.      可見光波段探測延遲范圍：0 to 300+nm

2.      深紫外波段探測延遲范圍：0 to 90+nm

3.      可見光波段應(yīng)力探測精度：0.001nm / ±0.03 (up to 3nm, 1% thereafter) 

4.      深紫外波段應(yīng)力探測精度：0.001nm / ± 0.08 nm (up to 4nm, 2% thereafter)