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HCP421V-MP 溫控探針臺 真空腔

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產(chǎn)品特點

HCP421V-MP可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可

詳細介紹

產(chǎn)品簡介

HCP421V-MP可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負(fù)溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。

功能特點
功能特點
迷你溫控探針臺,可用于 顯微鏡/光譜儀
-190℃~400℃ 可編程控溫(負(fù)溫需配液氮制冷系統(tǒng))
直徑 26 mm 加熱區(qū)
可抽真空的腔體,亦可充入保護氣體使用
模塊化設(shè)計,可自由組合
*可升級獨立的 4-8 獨立探針,可從設(shè)備外部移動探針進行點針,
可從溫控器或電腦軟件控制,可提供軟件 SDK
SMA 接頭轉(zhuǎn) BNC 四探針,手動點針
*可選三同軸接口,用于 pA 級測試
*可做定制或改動,詳詢上海恒商
獨立的四個探針,可從設(shè)備外部移動探針進行點針
電學(xué)參數(shù)
溫控參數(shù)
溫度范圍  -190℃ ~ 400℃(負(fù)溫需配液氮制冷系統(tǒng))
傳感器/溫控方式  100Ω鉑 RTD / PID 控制(含 LVDC 降噪電源)
最大加熱/制冷速度  30℃/min
最小加熱/制冷速度  ±0.01℃/min
溫度分辨率  0.01℃
溫度穩(wěn)定性  ±0.05℃(>25℃),±0.1℃(<25℃)
軟件功能  可設(shè)溫控速率,可設(shè)溫控程序,可記錄溫控曲線

光學(xué)參數(shù)

適用光路  反射光路 *另有透射光路型號
窗片  可拆卸與更替的窗片
最小物鏡工作距離  8 mm *截面圖中 WD
透光孔  臺面默認(rèn)無通光孔,可增設(shè)通光孔以支持透射光路
上蓋窗片觀察  窗片范圍φ27mm,最大視角±45° *截面圖中θ1
負(fù)溫下窗片除霜  吹氣除霜管路
 
結(jié)構(gòu)參數(shù)
加熱區(qū)/樣品區(qū)  直徑 26 mm
樣品腔高  5.4 mm *樣品最大厚度由探針決定
放樣  打開上蓋后置入樣品再點針,關(guān)上蓋后無法移動探針
氣氛控制  可抽真空的腔體,亦可充入保護氣體使用
外殼冷卻  可通循環(huán)水,以維持外殼溫度在常溫附近
安裝方式  水平安裝 或 垂直安裝
臺體尺寸/重量  250 mm x 180 mm x 55 mm / 2400g
 
配置列表
基本配置  HCP421V-MP 溫控探針臺、mK2000B 溫控器
可選配件  液氮制冷泵、循環(huán)水機、安裝支架、測試源表、真空系統(tǒng)、電化學(xué)工
作站、臺面電懸空、樣品接電引線


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