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Nanoscribe 多級衍射光學元件

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產(chǎn)品特點

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。

詳細介紹

產(chǎn)品介紹:

多級衍射光學元件

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。


出色形狀精度的DOE納米結(jié)構(gòu)

由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。


Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。


多達4096級衍射圖形

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衍射微光學領(lǐng)域應(yīng)用

想探索衍射微光學領(lǐng)域項目的更多可能性嗎?歡迎了解我們3D微納加工解決方案的不同應(yīng)用,以及有關(guān)衍射微光學領(lǐng)域的最 新10篇科學出版物。
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