全新Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻（A2PL?)系統(tǒng)通過新添加的高精度對(duì)準(zhǔn)功能實(shí)現(xiàn)了對(duì)高精度結(jié)構(gòu)的放置，增強(qiáng)了Nanoscribe已受大眾認(rèn)可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn)3D打印功能的最高分辨率打印設(shè)備利用A2PL技術(shù)，自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度對(duì)齊打印到光纖或光子芯片光軸上。可應(yīng)用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連，例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。

• 通過對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)（A2PL）實(shí)現(xiàn)高性能3D微納加工

• 在光纖上進(jìn)行3D打印: 基于纖芯檢測(cè)功能實(shí)現(xiàn)在光纖表面精確對(duì)準(zhǔn)打印

• 在芯片上進(jìn)行3D打印: 基于3D基底拓?fù)錁?gòu)圖在芯片表面或刻面上精確對(duì)準(zhǔn)打印

• 3D對(duì)準(zhǔn)技術(shù)：自動(dòng)檢測(cè)和三個(gè)旋轉(zhuǎn)軸上襯底傾斜補(bǔ)償

• 高速微納加工智能切片

• 基于雙光子聚合（2PP）的高精度3D打印