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光刻機(jī) / 紫外曝光機(jī) (Mask Aligner) M-100

品牌：深圳科時達(dá)
型號： M-100
產(chǎn)地：亞洲韓國
供應(yīng)商報價：面議

深圳市科時達(dá)電子科技有限公司更新時間：2025-05-09 06:37:55

銷售范圍售全國

入駐年限第4年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品光刻機(jī)(12件)

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產(chǎn)品特點

原產(chǎn)國: 韓國，唯一能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價比
型號：KCMA-100；
又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上Z早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
感謝南開大學(xué)，中科院半導(dǎo)體所,中科院長春應(yīng)化所，中科院物理所，浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究??！
此型號光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價格比Z高的型號，達(dá)到歐美品牌的對準(zhǔn)精度，CCD顯示屏對準(zhǔn)更為方便，液晶觸摸屏操作，采用歐司朗紫外燈，壽命長。整機(jī)效果皮實耐用，正常使用3年內(nèi)不會出問題?。?br /> 目前，上海藍(lán)光已采用該公司全自動型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn)，證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求！！而且已經(jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻工藝設(shè)備.

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)：
- 基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他尺寸可定制；
- 光束均勻性：<±3%；
- 曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒；
- 對準(zhǔn)精度：0.6-1微米
- 分辨率：1微米；
- 光束輸出強(qiáng)度：15-25mW/cm2；

	項目	技術(shù)規(guī)格
曝光系統(tǒng)(Exposure System) MDA-400M型	光源功率	350W UV Exposure Light source with Power supply
	分辨率	- Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer ) - Hard Contact : 1um - Soft contact : 2um - 20um Proximity: 5um
	最大光束尺寸	4.25×4.25 inch
	光束均勻性	≤ ±3% (4inch standard)
	光束強(qiáng)度	15~20mW/cm2 (365nm Intensity)
	曝光時間可調(diào)整	0.1 to 999.9 sec
對準(zhǔn)系統(tǒng)(Alignment System)	對準(zhǔn)精度	1um
	對準(zhǔn)間隙	手動調(diào)節(jié)(數(shù)字顯示)
	光刻模式	真空, 硬接觸, 軟接觸，漸進(jìn)（Proximity）
	卡盤水平調(diào)節(jié)	楔形錯誤補(bǔ)償Wedge Error Compensation
	真空卡盤移動	X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
	Z向移動范圍	10mm
	接近調(diào)整步幅	1um
樣品(Sample)	基底 Substrate	2, 3, 4 inch
樣品(Sample)	掩模板尺寸	4 and 5 inch
Utilities	真空 Vacuum	< -200 mbar (系統(tǒng)包含真空泵)
	壓縮空氣 CDA	> 5Kg/cm2
	氮氣 N2	>3Kg/cm2
	電源 Electricity	220V, 15A, 1Phase
	顯微鏡及顯示器 CCD and Monitor	Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;

主要特點：
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調(diào)；
- 專利技術(shù)：可雙面對準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 兩個CCD顯微鏡系統(tǒng)，最大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補(bǔ)償功能；