儀器簡介：

原理：
ETD-100AF 是高真空熱蒸發(fā)式小型鍍膜機。采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流加熱鉬舟或鎢絲藍或固定支架上的鍍膜材料，使其在高真空下蒸發(fā)，沉積在被鍍樣品上以獲得**鍍膜效果。

適用范圍：
電子顯微鏡樣品制備和清潔光欄，以及科研、教學(xué)和企業(yè)中的實驗活動、工藝試驗。

技術(shù)參數(shù)：

配置和參數(shù)：

* 真空室： 直徑230mm，高度：280mm
* 靶材料： 碳、金等。
* 電極(兩對)： 一對用于鉬舟或鎢絲欄，一對蒸碳。
* 最大電流： 100A
* 最大電壓： 10V
* 極限真空： 1×10 Pa
* 工作真空： 2×10 Pa
* 加熱功率： 1000W
* 機械泵：4 升/每秒，AC 220V/50Hz
* 復(fù)合分子泵： 600升/秒，AC 220V/50Hz(風(fēng)冷)

主要特點：

特點：

使用了大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵，確保噴鍍時能夠迅速抽掉蒸發(fā)源和樣品放出的氣體；正常情況下噴鍍室內(nèi)極少有油蒸氣回流，非常清潔。

可蒸發(fā)的材料：
碳、金等。