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產(chǎn)品中心

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瑞士NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機

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產(chǎn)品特點

■ 3D納米直寫能力
高直寫精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
高速直寫 20 mm/s 與EBL媲美
■ 無需顯影,實時觀察直寫效果
形貌感知靈敏度0.1nm
樣品無需標記識別,多結(jié)構(gòu)套刻,對準精度 5nm
■ 無臨近效應(yīng)
高分辨,高密度納米結(jié)構(gòu)
■ 無電子/離子損傷
高性能二維材料器件
■ 區(qū)域熱加工和化學反應(yīng)
多元化納米結(jié)構(gòu)改性
■ 大樣品臺
100mm X 100mm

詳細介紹


NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機 

源自IBMzui新研發(fā)成果      


    NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直寫機的問世,源于發(fā)明STMAFMIBM蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的zui新研究成果。NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直寫機第 一次將納米尺度下的3D結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。

    NanoFrazor采用直徑為5nm的探針,通過靜電力精確控制實現(xiàn)直寫3D高精度直寫,并通過懸臂一側(cè)的熱傳感器實現(xiàn)實時的形貌探測。相對于其他制備技術(shù)如電子束曝光/光刻技術(shù)(EBL), 聚焦離子束刻蝕(FIB)有以下特點:
   ■   3D納米直寫能力
         高直寫精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
         高速直寫 20 mm/s 與EBL媲美 
   ■   無需顯影,實時觀察直寫效果
         形貌感知靈敏度0.1nm
         樣品無需標記識別,多結(jié)構(gòu)套刻,對準精度 5nm 
   ■   無臨近效應(yīng)
         高分辨,高密度納米結(jié)構(gòu)
   ■   無電子/離子損傷
         高性能二維材料器件
   ■   區(qū)域熱加工和化學反應(yīng)
         多元化納米結(jié)構(gòu)改性
   ■   大樣品臺
         100mm X 100mm
 
 新產(chǎn)品發(fā)布:NEW!! NanoFrazor Scholar --小面積直寫
    ■   3D納米直寫能力
         高直寫精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
         高速直寫 10 mm/s 
   ■   無需顯影,實時觀察直寫效果
         形貌感知靈敏度0.1nm
         樣品無需標記識別,多結(jié)構(gòu)套刻,對準精度 10 nm 
   ■   無臨近效應(yīng)
         高分辨,高密度納米結(jié)構(gòu)
   ■   無電子/離子損傷
         高性能二維材料器件
   ■   區(qū)域熱加工和化學反應(yīng)
         多元化納米結(jié)構(gòu)改性
   ■   小樣品臺
         30mm X 30mm
 
 
    該技術(shù)自問世以來已經(jīng)多次刷新了世界上最小3D立體結(jié)構(gòu)的尺寸,創(chuàng)造了世界上最小的馬特洪峰模型,最小立體世界地圖,最小刊物封面等世界記錄。
 



  
 
獨特的直寫與反饋流程

PPA(聚苯二醛直寫膠涂敷在樣品表面。

背熱式直寫探針,微區(qū)電阻式加熱針尖。與針尖接近的PPA受熱瞬間分解,周圍部分由于PPA熱導率低而不受影響。

熱針震動模式直寫直寫時探針加熱,每次下針幅度受靜電力控制,垂直精度 1 nm,從而寫出3D圖形。

冷針接觸模式掃描,回程掃描時探針冷卻,由側(cè)壁的熱感應(yīng)器探測樣品高度變化(精度0.1nm), 獲得樣品形貌。反饋數(shù)據(jù)修正下一行直寫。
 
 
獨有的直寫針尖設(shè)計
    
    普通的AFM針尖無法滿足上述NanoFrazor直寫流程的需求,因此NanoFrazor所用針尖是由IBM專門研發(fā)設(shè)計的。該針尖具有兩個電阻加熱區(qū)域,針尖上方的加熱區(qū)域可以加熱到1000oC。 第二處加熱區(qū)域作為熱導率傳感器位于側(cè)臂處,其能感知針尖與樣品距離的變化,精度高達0.1 nm。因此在每行直寫進程結(jié)束后的回掃結(jié)構(gòu)時,并不是通過針尖 起伏反饋形貌信息,而是通過熱導率傳感器感應(yīng)形貌變化,從而實現(xiàn)了比AFM快1000余倍的掃描速度,同避免了針尖的快速磨損消耗。

 
 
NanoFrazor技術(shù)特點
   
 

其他功能

● 納米顆粒有序定位排列

● 納米局部化學反應(yīng)誘導

● 表面化學圖案、結(jié)構(gòu)生成
納米顆粒有序定位排列 
 氧化石墨烯的定位還原
  
 

圖形轉(zhuǎn)移

    通過NanoFrazor3D納米結(jié)構(gòu)直寫機獲得的納米圖形結(jié)構(gòu),可以通過傳統(tǒng)成熟的工藝技術(shù),如干法刻蝕,電鍍、注射成型法等進行圖形轉(zhuǎn)移。
 
  
 
 應(yīng)用領(lǐng)域



快速原型設(shè)計開發(fā)

● 衍射透鏡,全息圖

● 非球面微透鏡陣列

● 波導纖維、光子晶體

 MEMS/NEMS

● 表面等離子激元,超材料

● 納米磁學

● 納米電子器件

● 生物細胞研究

● 納米流體控制

● 反物質(zhì)物理學
 

微納結(jié)構(gòu)

● 防偽標識

● DFB 激光、

● ASICs 的關(guān)鍵部位加工

模板加工

● 光掩模板

● 納米壓印印章

● 注射成型模具

 



 




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